J9九游会中国这个对生人东说念主来说看似欢然的乡村的场地-中国(九游会)官方网站
发布日期:2024-10-08 05:35    点击次数:67

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(原标题:探秘ASML荷兰总部)

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起原:实质编译自HankYung,谢谢。

费尔德霍芬 (Feldhoven) 距荷兰阿姆斯特丹东南边向 1 小时 40 分钟车程。这个对生人东说念主来说看似欢然的乡村的场地,却是中好意思“芯片大战”的关节战场。这是因为ASML有其总部。即就是主导行家晶圆代工(半导体代工出产)阛阓的台湾台积电,在ASML的极紫外(EUV)曝光开辟“High-NA EUV”眼前也仅仅“客户之一”。

9月初,夏令炎炎,韩国媒体HankYung成为第一家踏上ASML园区并会见ASML CEO Christopher Fouquet的媒体。这里只须三星电子董事长李在镕、台积电首席实行官等少数“半导体巨头”不错在参不雅名册上留住签名。韩国经济日报本年第三次与首尔大学工学院合营出书“探访翌日科技边界”系列著述,经过三年的劝服,才得以派记者来此。这是“三试三试”的成果。

在总部一楼经过澈底的身份识别,插足大楼后,“专利墙”引起了我的放心。这是一个追想ASML工夫历史的空间。“这是对开发该工夫的工程师的尊重,”

ASML公关司理凯尔西·西格斯 (Kelsey Siegers) 说。ASML握有的专利数目2020年晋升13,500项,2021年晋升15,000项,2022年晋升16,000项,旧年为17,000项。在记者眼里,这被解读为一种自信,“淌若你要随着我,那就随着我吧。” High-NA EUV是一种半导体开辟,被与中国进行工夫和营业战的好意思国严格不容向中国出口。

ASML 规划通过 High-NA EUV 再次给天下带来惊喜。莫得High-NA EUV,就不成能插足被称为晶圆代工翌日的3纳米(nm·1nm=十亿分之一米)工艺。这就是为什么三星电子和台积电规划再购买至少一台该开辟。“High-NA EUV 的光学系统不错以纳米级精度限度高速光源,”首席实行官 Fouquet 暗意,“通盘系统必须处于真空且极其洁净的现象,而且温度必须紧密限度在 0.005 摄氏度。”咱们运用了一定水平的工夫,”他强调说。

High-NA EUV有望成为异常纳米、初度开启NGSTRM时间的“梦念念开辟”。这意味着超紧密电路不错以埃(又是 1 纳米的 1/10)为单元绘图在硅基板上。ASML的工夫不错说是来自荷兰、德国和瑞士的欧洲精密光学的积聚,有望在半导体历史上书写又一个篇章。

这意味着,即使中好意思霸权干戈堕入平川,领有EUV曝光开辟“Sovereign Tech”的荷兰仍将是一个受到两边阵营“爱呼叫”的国度。

ASML推出“High-NA EUV”曝光开辟

在荷兰Veldhoven的ASML园区总部一楼,有一个“体验中心”,集成了ASML往时40年积聚的工夫。尹锡烈社长和三星电子会长李在镕也参不雅过,这里的很大一部分展示了天下上只须ASML不错制造的极紫外(EUV)曝光开辟的关节部件。

最诱骗我眼球的是德国光学公司蔡司出产的镜头。蔡司的镜头起着聚光的作用,是创造 ASML 的“高数值孔径 EUV”的关节组件。淌若莫得这个镜头,EUV 工夫就不成能已毕。辐射光的激光机的原始工夫亦然从德国特朗普公司引进的。这就是为什么 ASML 首席实行官 Christopher Fouquet 说:“ASML 历史上最迫切的词是生态系统。”中国委果在统共工夫上齐赶上了好意思国,但它之是以无法师法ASML,是因为它不懂得怎么进行异常一国的工夫合营。

东说念主类史上最复杂的机器

曝光是八泰半导体工艺中最迫切的一种,是通过映照光源在晶圆上重迭印刷遐想电路的进程,被以为是已毕超紧密电路的关节工夫。最先进的曝光工夫是EUV。ASML的高NA EUV曝光开辟每台老本高达数千亿韩元,无可替代,以致于被戏称为“东说念主类创造的最复杂的机器”。这是代表荷兰的“Sovereign Tech”。

矛盾的是,恰是通过与各个公司的工夫合营,才创造出了一项足以保护国度主权的迫切工夫。ASML有晋升5100家合营伙伴公司,合营制造EUV曝光机以及深紫外(DUV)曝光机,级别较低。不分国籍、学历、专科的东说念主才招聘计谋亦然ASML合营科罚的迫切轴心。ASML职工来自好意思国、欧洲、亚洲、非洲等140个国度。首席实行官 Fouquet 强调,“咱们在 16 个国度领有晋升 44,000 名具有不同配景的职工”,并补充说念,“无论专科或国籍怎么,咱们在招聘多元化东说念主才方面处于首先地位。”

研发东说念主员增多 50%

上个月我参不雅的ASML园区正忙着扩建晶圆厂。重型建筑开辟不断迁移,洁净室陶冶也被以为是为了扩大研发和出产行径。公关司理 Kelsey Siegers 评释说念:“咱们的运筹帷幄是到 2026 年每年省略出产 90 台 EUV 曝光机,到 2028 年每年省略出产 20 多台第二代 EUV 开辟 High-NA EUV。”

ASML 寻求扩建园区的原因是,即使中好意思之间的半导体干戈愈演愈烈,仍要保握 EUV 工夫差距。ASML接续扩大研发投资。2020年研发投资边界为22亿欧元,旧年委果翻倍至40亿欧元。同时,研发职工也增多了50%,从10,543东说念主增多到15,605东说念主。韩国、好意思国、中国和台湾之是以不得不使用ASML开辟,就是研发。

原文连合:https://www.hankyung.com/article/2024100674951

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